Global ZEUS Brand Film
GLOBAL ZEUS BRAND FILM
반도체 세정 공정의 새로운 기준을 제시하는 제우스의 주력 장비, ION12와 APOLLON 소개 영상을 제작하였습니다. 300mm 싱글 웨이퍼 습식 세정 장비로서, 전공정(FEOL)부터 후공정(BEOL)까지 폭넓은 공정 범위를 커버하는 두 제품의 핵심 기술력과 설계 철학을 시각적으로 표현하였습니다. 공간 효율과 생산성을 동시에 극대화한 ION12의 12챔버 트리플 데커 구조, 그리고 1~8챔버의 유연한 구성으로 다양한 고객 환경에 대응하는 APOLLON의 필드 검증된 성능을 담아, 글로벌 반도체 시장에서의 제우스만의 기술 경쟁력을 강조하였습니다.
imago Voucher produced the brand film for Global ZEUS’s flagship semiconductor cleaning systems, ION12 and APOLLON. Covering 300mm single-wafer wet cleaning across the full FEOL-to-BEOL process range, the film visualizes the core engineering and design philosophy behind both platforms. ION12’s twelve-chamber triple-decker architecture maximizes throughput within a compact footprint, while APOLLON’s flexible 1–8 chamber configuration delivers field-proven performance for diverse customer environments — together asserting ZEUS’s technological edge in the global semiconductor market.
STYLEFRAME
ZEUS
ION12
APOLLON
CHAMBER
WAFER#SINGLE WAFER
300mm 싱글 웨이퍼 습식 세정에 최적화된 정밀 구조를 강조하기 위해, 웨이퍼의 흐름과 챔버의 동선을 동기화시켜 정밀도를 시각화했습니다.
To highlight single-wafer wet-cleaning precision optimized for 300mm process, wafer flow and chamber motion are synced into one visual signature.
#FEOL TO BEOL
FEOL부터 BEOL까지 폭넓은 공정 대응 능력을 마이크로 디테일 샷과 시뮬레이션 이미지로 결합하여, 라인 전체의 호환성을 직관적으로 전달했습니다.
Broad FEOL-to-BEOL coverage is communicated by intercutting macro detail with simulation imagery — making line-wide compatibility immediately legible.
#FIELD PROVEN
필드 검증된 성능을 챔버 구조, 기구 동작, 데이터 흐름이라는 세 레이어로 분리해 모션그래픽으로 구성, 운용 신뢰성을 보여줍니다.
Field-proven performance is split into three layers — chamber structure, mechanical motion, and data flow — assembled in motion graphics that signal operational reliability.
PRECISION IN EVERY WAFER
제우스는 반도체 세정의 핵심 기준을 새롭게 정의하는 회사입니다. 본 프로젝트에서 imago Voucher는 ION12와 APOLLON 두 장비의 기술적 본질을, 정밀한 모션과 절제된 시각 언어로 통합하는 것을 목표로 했습니다. 챔버 구조와 웨이퍼의 움직임이 하나의 리듬으로 짜여지도록 설계된 영상은, 제우스가 추구하는 정확함과 신뢰성을 그대로 닮아 있습니다.
ZEUS redefines the core standards of semiconductor cleaning. Beyond product demonstration, this project distills the engineering essence of ION12 and APOLLON into a single visual language built on precision and restraint. Designed so that chamber architecture and wafer motion weave into one continuous rhythm, the film mirrors the accuracy and reliability ZEUS stands for.
KEY CONCEPT
ZEUS 세정 장비의 핵심 가치는 ‘싱글 웨이퍼 정밀도, FEOL-BEOL 전 공정 대응, 필드 검증된 신뢰성’이라는 세 축으로 구성됩니다. 본 영상에서는 이 세 가지 가치를 각각의 시퀀스로 분리해 전달하면서도, 전체적으로는 매끄러운 하나의 흐름으로 묶어내어 공정 라인의 일관성과 안정감을 동시에 표현했습니다.
The core value of the ZEUS cleaning systems is structured around three axes — single-wafer precision, full FEOL-to-BEOL coverage, and field-proven reliability. The film separates these into distinct sequences while binding them into one continuous flow, expressing both consistency and stability across the production line.
Precision
싱글 웨이퍼 정밀도를 공정의 본질로
Single-wafer precision as the core of the process
Coverage
FEOL부터 BEOL까지 이어지는 전 공정 대응
Full coverage spanning FEOL to BEOL
Reliability
필드에서 검증된 신뢰 가능한 파트너
A reliable partner proven in the field
ZEUS의 ION12와 APOLLON 브랜드 필름은 반도체 세정 공정에 적합한 정밀 장비 솔루션을 시각화하며, 글로벌 반도체 시장에서 제우스만의 기술 경쟁력과 신뢰성을 명료하게 전달합니다.
The brand film for ZEUS’s ION12 and APOLLON visualizes a precision equipment solution tailored to the semiconductor cleaning process, clearly communicating ZEUS’s technological edge and reliability in the global semiconductor market.
CLEANING
PRECISION
